电子科技大学宣邦楼
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11 IR Drop
IR Drop 的成因
根据欧姆定律,电流流过电阻就会产生压降。从稳压器到芯片的供电路径由铜皮走线和过孔组成,每一段都有微小的电阻。当电流流过时,每段路径都会分掉一小部分电压,芯片实际得到的电压等于稳压器输出减去这段路径上的总压降。
IR Drop 的影响
芯片的核心电压有一个容差窗口。例如 1.0 V ±5% 的供电要求,意味着芯片引脚处的电压必须保持在 0.95 V 到 1.05 V 之间。低于 0.95 V 时,芯片可能计算出错甚至死机。
IR Drop 的隐蔽性在于:电流越大,压降越大。轻载时电流小,路径压降可以忽略,电压看起来正常;一旦进入重载工况,电流飙升,电压随之下降。故障恰恰在重载时才出现,表现为偶发性问题,难以复现。
正确测量 IR Drop
最容易犯的错误是把万用表表笔搭在稳压器输出端测量。稳压器输出端的电压确实很准,但这不是芯片实际的供电电压。应当把表笔搭到芯片的电源引脚,或者最靠近芯片的那颗去耦电容的焊盘上, 测量芯片实际接收到的电压。为避免表笔引线自身的电阻引入额外压降,应采用开尔文四线法:将表笔直接搭在引脚根部,用独立的两根线分别施加电流和测量电压,消除引线电阻的影响。最后,同时测量稳压器输出端和芯片引脚两处的电压,两者相减就是这段路径上真实的 IR Drop。
此外,必须在满载下测量。 满载是压降最大的工况,只测空载或轻载,IR Drop 几乎为零,等于没有测量。必须在芯片处于最大工作电流的状态下测量,才能暴露真实的压降问题。
判定标准
- 芯片引脚电压:不超出容差窗口(如 1.0 V ±5% → 0.95~1.05 V)
- IR Drop 占比:不应占用过多容差预算,需保留足够裕量
改进方法
如果实测 IR Drop 过大,需要从 PCB 布局层面降低供电路径的等效电阻:
- 加宽铜皮:增大走线截面积,降低单位长度电阻
- 多打过孔:过孔也有电阻,多个过孔并联可降低总电阻
- 缩短路径:缩减排列稳压器与芯片之间的距离
- 整层平面供电:用完整的铜平面代替细走线,大幅降低路径电阻
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